中芯国际将与ASML谈判想引进EUV光刻机?关键细节被卡死

原创 PC4f5X  2021-01-02 09:32 

原标题:中芯国际将与ASML谈判想引进EUV光刻机?关键细节被卡死 来源:快科技

有消息称,在新任副董事长蒋尚义的帮助下,中国芯片巨头中芯国际将寻求与荷兰半导体设备公司阿斯麦(ASML)就EUV光刻设备进行谈判。

报道称,中芯国际一直难以从阿斯麦获得EUV光刻设备,尽管阿斯麦在法律上不受某些约束条件的影响,但仍存顾虑。

对于中芯国际引入EUV (极紫外光源)光刻机事情,目前上市不被允许的,而ASML之前已经证实。

ASML CFO Roger Dassen表示,如果广泛的来理解其规章制度对ASML的总体含义(对于特定的中国客户),则意味着ASML将能够从荷兰向这些中国客户提供DUV光刻系统,且无需出口许可证,但是EUV (极紫外光源)光刻机是没有机会的。

2018年4月,中芯国际向ASML订购了一台 EUV 光刻机,价值1.2亿美元(约合人民币8亿元),预计2019年年初交货。后来此事被报道后,ASML回应称,对包括中国客户在内的全球客户都一视同仁,且向中国出售EUV光刻机并没有违反《瓦森纳协定》。当时,荷兰政府的确向 ASML 发放了出口许可证。

不过,最终这个交易也没有形成,此后,关于 EUV 光刻机向中国出口,ASML 的官方说法一直是:公司仍在等待新许可证申请的批准。

目前的光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV光刻机,分为干分式与液浸式两种。其中,液浸式于ASML手中诞生,其波长虽然有193nm,但等效为134nm,经过多重曝光后,液浸式光刻机也能够达到7nm工艺。但是,每多一次曝光都会使得制造成本大大提升,而且良品率也难以控制。

EUV光刻机采用13.5nm波长的光源,是突破10nm芯片制程节点必不可少的工具。也就是说,就算DUV(深紫外线)光刻机能从尼康、佳能那里找到替代,但如果没有ASML的EUV光刻机,芯片巨头台积电、三星、Intel的5nm产线就无法投产。

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